根據研磨廢水的特性，合理制定廢水回收處理工藝

半導體集成電路封裝制作過程中會對晶片進行切割和研磨，并且會運用超純水進行洗凈，這樣就發生了少量的切割研磨廢水。研磨廢水中含有高濃度以各種情況存在的細小的研磨含硅顆粒物、化學藥劑、超純水以及金屬離子物質。該半導體研磨廢水的危害性是顯而易見的。

目前國內大部分的廠家是采取加藥混凝積淀和濾袋過濾方法處理的，出水到達污水綜合處理達標排放的規范。有一些廠家盡管是采取膜法過濾處理廢水，但膜梗塞重大，清洗頻繁，少量使用化學藥劑，運行成本昂揚。半導體研磨廢水回用的處理方法有很多，由于半導體廢水處理技術的應用和發展，使其工藝得到不斷改進，工藝更加緊湊，處理效率得到提高。

研磨廢水回用處理方法：

(1)通過廢水搜集箱搜集硅片研磨發生的廢水；

(2)應用水泵將廢水泵入多介質過濾器進行第一次過濾；

(3)將經過第一次過濾的水送入保安過濾器進行第二次過濾；

(4)將經過第二次過濾的水送入膜過濾設備中進行深度處理并回用。

萊特萊德在廢水回收領域深耕多年，根據研磨廢水的特性，合理制定處理工藝。預處理工藝搭配膜法分離系統，對研磨廢水的處理效果明顯，降低后續膜系統的清洗頻率，保證膜系統的長期穩定運行。

萊特萊德廢水回用設備總回收率大于75%，廢水通過廢水回收系統實現了循環利用，因此可節約75%以上廢水排污費用。廢水回收系統采用特殊膜分離新技術，工藝簡單，運行穩定可靠，處理效率高。廢水回用系統不僅能有效地節約有限的水資源，從而減輕對水資源的消耗，緩解日趨突出的用水緊張矛盾，而且能減少污水的排放，減輕對周圍水體的污染，改善人類居住環境。