表面微粒分析儀 返回列表頁

表面顆粒物檢測儀

表面微粒分析儀   產品介紹

P-III 的表面粒子檢測器系列通過以下技術實現電子半導體行業表面污染的量化監測和控制：

核心技術原理

界面顆粒再懸浮技術：采用界面技術，通過物理或氣流方式將附著在關鍵

表面的顆粒重新懸浮，便于后續檢測。

高精度光學檢測：基于激光光學傳感器和光散射原理，實時捕獲懸浮粒子的散

射光信號，實現單個粒子尺寸的精確分析。

表面微粒分析儀  關鍵性能指標

分辨率達 0.1 微米，支持納米級顆粒檢測；

配備靜態采樣模式，提升測量精度和穩定性；符合 ISO-14644-9表面粒子控制標準， 滿足半導體制造中對潔凈度的嚴苛要求

行業應用優勢

減少 50%以上的自凈時間及顆粒數，縮短 PM 周期，提升制造效率；

通過實時監測表面污染，降低因顆粒導致的良率損失和可靠性風險；

適用于晶圓、光學元件、精密電路板等對潔凈度敏感的生產環節。

系統集成設計

支持 USB 數據導出和軟件升級，便于與工廠智能管理系統對接；

采用雙電池熱插拔設計，適應連續生產環境的需求。

該系列設備通過量化表面污染數據，為半導體制造中的過程控制提供標準化依據，從而優化生

產良率和產品可靠性。

傳感器：第七代雙激光窄光檢測器，壽命>200000 次

智能化設計與操作體驗

7 英寸高分辨率觸控屏：支持實時數據可視化與交互操作，簡化流程。

雙電池熱插拔系統：支持連續生產場景下的不間斷作業，電池更換無需停機。

USB 數據接口與軟件升級：便捷導出檢測報告，并可通過固件更新持續優化性能。

提升制造效率

減少 50%自凈時間：通過量化表面污染數據，縮短設備維護周期（PM 周期），提升產線吞吐量。

延長 MTBC（平均周期）：結合顆粒控制策略，關鍵設備可靠性提升 4 倍以上。