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詳細介紹
1600X：真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)
CVD-TF16P50/60/80/100 CVD-TF16T50/60/80/100 CVD-TF16P60/80/100S CVD-TF16T60/80/100S
提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境，應用在半導你、納米技水、碳纖維等領域
■ 產 品 用 途 ：
此款CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膠、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容{ MLCC } 氣氛燒結笏實驗。
■ 產 品 特 點 ：
• 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成，溫場均勻節能50%以上
• 啟動電爐，排溫風機同時自動運行，試驗結束后，排溫風機將繼續運行，直至爐體溫度低于60七，排溫風機自行停止，有效保護了爐體表面
• 爐門開啟自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能，以確保使用的安全性
參電路采用連續加熱輸出方式，雙回路供電，強弱電單獨走線提高了系統的穩定性
• 加熱模塊采用直流信號調節輸出功率，避免了感應電對控制佶號的干擾
• 操作按鍵選用低壓金屬按鈕，自帶狀態指示燈，操作安全直觀
• 上下爐體采用航空插頭連接方式，連接安全可靠方便
• 氣路總成采用貪品級316不銹鋼制成，具有耐蝕性，耐大氣腐蝕性和耐高濕強度好，無磁性
• 采用數顯流呈顯示儀.配合質至流呈控制器，采集數據并控制流呈。具有控制精度高，重復性好，相應速度快，穩定可靠等特點。
(氣體質至流呈控制系統}
• 自動控制與手動控制切換功能，自動控制模式能通過設定值自動開啟/關閉真空泵，使容器內保持在一定的真空壓力范圍內。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟/關閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的甭要。 （中真空控制系統）
• 電磁閥緩啟動技術，使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開，使爐管內系統壓力保持準確，也保證了廢氣不會返回到爐管系統影響實驗效果（中真空控制系統）
■安全性 ：
< 過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。
•采用單向閥技術，使氣體流至在可控壓力范圍內控制，保證安全。
•采用混氣罐裝置，使氣體可以在充分混合后導入工作室內，確保不會泄露。
■技術參數:
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