EDI反滲透純水設備

EDI反滲透純水設備

純水設備水質標準：
  我公司半導體行業用超純水出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、大規模集成電路水質標準。

純水設備的工藝流程：

1、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→產水(≥18MΩ.CM)

2、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲透膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)

3、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

4、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→混床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM) 

EDI反滲透純水設備

純水設備對水質的要求：

  新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

電子工業超純水設備應用范圍：

☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

☆黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片

☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質顯像管、螢光粉生產

☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

☆實驗室和中試車間

☆汽車、家電表面拋光處理

☆光電產品、其他高科技精微產品

EDI反滲透純水設備

混床工作原理：

   在同一個交換器中，將陰、陽離子交換樹脂按照一定的體積比例進行填裝，在均勻混合狀態下，進行陰、陽離子交換，從而除去水中的鹽分，稱為混合床除鹽處理?；旌洗驳年?、陽離子交換樹脂在交換過程中，由于是處于均勻混合狀態，交錯排列，互相接觸，可以看作是由許許多多的陰、陽離子交換樹脂而組成的多級式復床，可相當于1000～2000級。因為是均勻混合，所以，陰、陽離子的交換反應幾乎是同時進行的，所產生的H+和OH-隨即合成H2O，交換反應進行得很，出水水質高。